KLA/ECI 美国

溶液化学成分分析和监控设备

Chemical Management Systems for Semiconductor, PV, and PCB industries

典型产品：

1、QualiLab® CVS Cyclic Voltammetric Stripping(CVS)循环伏安剥离分析式的电镀槽分析

应用：

电镀，有机添加剂，无机成分Cu, Ni, Sn, Sn/Pb, Pd, Zn, Co/Ni

化学镀，金属，还原剂，配位剂，缓冲剂，背景离子在Co, Cu, Ni, Pd以及相应溶剂中的化学镀分析

特点：

CVS以及快速CVS技术对有机成分的分析

电位滴定对无机成分的分析

副产物的分析

用户友好的界面

TCP/IP通信， Laboratory Information Management System LIMS实验室信息管理系统

2，Quali-Fill 在线化学溶液控制系统

应用：

晶圆级封装：Bump, RDL, UBM, Cu Pillar工艺

3DIC: TSV工艺

特点：

自动校准验证

和电镀机台无缝连接

支持全部主流电镀液

没有危险排放

3, Quali-Surf® 在线湿法工艺化学成分分析系统

Applications:

应用：

氮化硅刻蚀（热磷溶液中的硅含量）

有机物移除DSP+, EKC-580

硅刻蚀 TMAH

铝刻蚀H3PO4-HCl

特点：

自动校准验证

和电镀机台无缝连接

内置温度控制算法

特有的气泡，分散空气移除控制

多路化学溶液进行分析

4，SERA® (Sequential Electrochemical Reduction Analyzer) 金属氧化层厚度分析仪

应用：

金属表面的氧化物和其它重复产物的分析

分析在不同温度，环境下的氧化物机理

特点：

定量分析氧化物和其它类似重复产物

分析铜和银线，直径范围0.8 – 3 mil

对氧化物和硫化物的类型和厚度分析